真(zhen)空(kong)气(qi)氛(fen)箱(xiang)式(shi)炉(lu)是(shi)一(yi)种(zhong)高(gao)温处理设备，结(jie)合了真(zhen)空(kong)环境(jing)和气(qi)氛控(kong)制功(gong)能(neng)。它(ta)通(tong)常用于(yu)烧(shao)结(jie)、退火(huo)、热(re)处(chu)理等(deng)工(gong)艺(yi)，能(neng)够在控制(zhi)的气(qi)氛(fen)条件(jian)下对(dui)材(cai)料(liao)进行(xing)加(jia)热(re)处(chu)理。温度区间选(xuan)择从(cong)400-1800℃，真空度(du)不(bu)大于0.1Mpa.

主要(yao)特(te)点(dian)包括：

1. 箱式结构： 真(zhen)空气(qi)氛(fen)箱(xiang)式(shi)炉的(de)外(wai)形类(lei)似(shi)一(yi)个(ge)箱子(zi)，内(nei)部(bu)空(kong)间(jian)用于(yu)放(fang)置(zhi)待(dai)处理的材料(liao)样(yang)品。箱式(shi)结(jie)构设计使得(de)它(ta)适(shi)用于加(jia)工(gong)较大量的(de)样(yang)品。
2. 真(zhen)空环境： 真空气(qi)氛箱(xiang)式炉能够在真空环境下(xia)进行加(jia)热(re)处理(li)。通(tong)过(guo)排除(chu)炉(lu)腔内的氧气(qi)和(he)其他(ta)气体，可(ke)以防止材料氧(yang)化、脱气(qi)等反应，提高(gao)材料(liao)的(de)纯(chun)度和(he)质(zhi)量(liang)。
3. 气(qi)氛(fen)控制： 除了真空(kong)环(huan)境(jing)，真空(kong)气氛(fen)箱式炉(lu)还可(ke)以(yi)控(kong)制气氛环(huan)境，如氮气、氩气(qi)等惰性气体环(huan)境。这(zhe)有(you)助于(yu)控(kong)制材料的化(hua)学(xue)反应(ying)、脱气(qi)和(he)纯度(du)。
4. 高(gao)温(wen)加热： 真(zhen)空气氛箱(xiang)式(shi)炉(lu)通常能够提(ti)供(gong)高温(wen)加(jia)热(re)，可(ke)以(yi)达到空(kong)气(qi)下(xia)最高(gao)1800℃的(de)温度。这(zhe)使得它们(men)适用(yong)于高温处理需要的(de)材(cai)料(liao)，如(ru)金(jin)属(shu)、陶(tao)瓷、玻(bo)璃(li)等。
5. 精(jing)确控(kong)制(zhi)： 真空气氛(fen)箱式(shi)炉(lu)通常配备高精(jing)度的温度(du)控(kong)制系(xi)统，可(ke)以精确(que)控制加(jia)热(re)过(guo)程(cheng)的(de)温度(du)、压力和气氛组(zu)成(cheng)，以(yi)满(man)足不(bu)同(tong)材料(liao)加(jia)热处(chu)理的需求。
6. 真空(kong)度(du)：真(zhen)空(kong)气氛(fen)箱(xiang)式(shi)炉(lu)由于其结(jie)构的(de)特性，无法承载过(guo)于(yu)高(gao)的压力(li)和(he)真(zhen)空(kong)度(du)，其(qi)一(yi)般可(ke)满足0.1Mpa的(de)正负气(qi)压(ya)。在(zai)炉膛真(zhen)空(kong)的起(qi)初(chu)上(shang)，通(tong)入气(qi)氛，使(shi)烧(shao)结(jie)环境(jing)更加的(de)纯净。
7. 气路(lu)和(he)流量：真(zhen)空(kong)气(qi)氛箱(xiang)式炉标配有2路(lu)标准进(jin)气(qi)，包(bao)含有(you)浮(fu)球流量计和指针(zhen)压力(li)表(biao)。可在(zai)其基(ji)础上(shang)进(jin)行(xing)功(gong)能(neng)和产品扩(kuo)充。
8. 可扩(kuo)展(zhan)性：
   1. 控制方式(shi)定制(zhi)：由传(chuan)统(tong)的(de)国(guo)产(chan)仪(yi)表(biao)PID控制(zhi)，可(ke)定(ding)制进口仪(yi)表(biao)或PLC控制(zhi)。多种(zhong)选(xuan)择(ze)可(ke)满足(zu)不同(tong)客(ke)户(hu)的使用习(xi)惯(guan)。
   2. 炉门(men)开启(qi)方(fang)式：传(chuan)统(tong)开(kai)启(qi)方(fang)式为侧开(kai)，可定制(zhi)开门方(fang)向(xiang)及(ji)开(kai)启方(fang)式(shi)，手(shou)动，半(ban)自动，自动(dong)化一应(ying)俱(ju)全。
   3. 多(duo)面(mian)加热：根(gen)据炉(lu)膛(tang)大小(xiao)，熔科(ke)在尽可(ke)能保(bao)证炉温(wen)均(jun)匀性(xing)的同时(shi)，额(e)外提供(gong)多(duo)面加热选(xuan)择，可(ke)满足更(geng)高(gao)炉(lu)温(wen)均匀性的要(yao)求。
   4. 多点控(kong)温：根(gen)据不(bu)同的使(shi)用场景(jing)要(yao)求，可供客户(hu)选(xuan)择多面加热，以(yi)提(ti)高(gao)热辐射效率(lv)和(he)炉(lu)温的(de)覆(fu)盖(gai)范(fan)围。
   5. 排(pai)气口和气路(lu)：可(ke)根(gen)据客(ke)户(hu)使(shi)用(yong)要求(qiu)，增(zeng)加排(pai)气(qi)口和气(qi)路(lu)以(yi)及流量计等，以(yi)满(man)足(zu)客(ke)户(hu)对(dui)于工艺的要(yao)求。
   6. 触摸(mo)屏(ping)控制(zhi)：熔科(ke)可(ke)根据(ju)市(shi)场(chang)上(shang)现(xian)有(you)流行的(de)工控(kong)触(chu)摸(mo)屏集(ji)合(he)制(zhi)作触摸(mo)屏(ping)控制系统，报表，数据，可实(shi)时观察下载(zai)。

9. 标准(zhun)规格

   规(gui)格(ge)	炉膛(tang)尺寸（mm）	电压(ya)	功率(lv)	发(fa)热(re)元(yuan)件(jian)
   ZQLB	200×150×150	220V	4KW	U型(xing)硅(gui)碳(tan)棒
   	300×200×200	380V	8KW	U型(xing)硅(gui)碳(tan)棒(bang)
   	300×300×300	380V	12KW	U型(xing)硅(gui)碳棒(bang)
   	500×300×200	380V	15KW	U型硅碳棒(bang)
   	500×300×300	380V	18KW	U型硅(gui)碳(tan)棒(bang)
   	600×400×400	380V	24KW	U型(xing)硅碳棒
   	800×500×500	380V	35KW	U型(xing)硅碳(tan)棒(bang)
   备(bei)注(zhu)	1. 功率数(shu)据以1200摄氏度(du)为(wei)例，更高(gao)温度发(fa)热元件选择有所(suo)变(bian)化。 2. 真空(kong)气氛会影(ying)响发(fa)热(re)元(yuan)件(jian)的发热效率(lv)，从(cong)而(er)影(ying)响使用温(wen)度(du)。 3.功率(lv)电压等(deng)为参(can)考(kao)值，具体(ti)以(yi)实(shi)际(ji)提(ti)供技(ji)术(shu)参(can)数(shu)为(wei)准(zhun)。

真空气氛箱式(shi)炉在(zai)材料(liao)科(ke)学、金属加工(gong)、陶瓷(ci)制备等领域(yu)具(ju)有广泛的(de)应用，能(neng)够(gou)提供(gong)稳(wen)定、可(ke)控(kong)的(de)加热环(huan)境，有(you)助于实(shi)现(xian)材料(liao)的(de)特定(ding)性能(neng)和(he)结(jie)构的调控。需要额(e)外(wai)注(zhu)意(yi)的(de)是(shi)，如(ru)果(guo)空(kong)气中(zhong)的(de)使用(yong)温度为1700℃的(de)高(gao)温(wen)炉，在(zai)不同的(de)气氛和真(zhen)空(kong)度下，其使用温度会有变(bian)化。详情(qing)可(ke)咨(zi)询。